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Beschreibung
Schwerpunkte in Band 2 bilden das Aufdampfen im Hochvakuum, das Ionenplattieren, die Kathodenzerstäubung, teilchengestützte Verfahren, die Erzeugung von Mikrostrukturen, Plasmabehandlungsverfahren und die Abscheidung aus der Gasphase (CVD).
Verfahren und Anlagen
Details
| Verlag | Springer Berlin |
| Ersterscheinung | 14. Oktober 2012 |
| Maße | 24.4 cm x 17 cm |
| Gewicht | 854 Gramm |
| Format | Softcover |
| ISBN-13 | 9783642633980 |
| Auflage | Softcover reprint of the original 1st edition 1995 |
| Seiten | 481 |
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