Teoretyczna ocena wspó¿czynnika odbicia w cienkich warstwach AL/SiO2

Poprawa w¿äciwo¿ci optycznych materiäu, takich jak reflektancja, wi¿¿e si¿ ze z¿o¿onym poszukiwaniem optymalnych parametrów eksperymentalnych w procesie ich otrzymywania. Wykorzystanie oprogramowania obliczeniowego do symulacji procesów wzrostu cienkich warstw stanowi istotn¿ korzy¿¿ ze wzgl¿du na brak zale¿no¿ci od rzeczywistego systemu, jak równie¿ mo¿liwo¿¿ zbadania szerszego zakresu wyst¿puj¿cych wielko¿ci fizycznych. Ponadto, istnieje potrzeba w przemy¿le motoryzacyjnym, Varroc Lighting Systems© otrzymä zadanie poprawy wspó¿czynnika odbicia reflektorów aluminiowych, wi¿c przeprowadzili¿my rozwój, przy u¿yciu oprogramowania NASCAM®, które wykorzystuje metod¿ kinetyczn¿ Monte Carlo do opracowania modelu uk¿adu fizycznego, który ma by¿ badany w skali nanometrycznej, pozwoli nam to na analiz¿ wp¿ywu ró¿nych wielko¿ci, które mog¿ wp¿ywä na wspó¿czynnik odbicia materiäu.