Sulla fabbricazione litografica di nanostrutture di Fe e Co

L'industria dei semiconduttori è alla base dello sviluppo delle nanotecnologie e ne trae grande beneficio. Come previsto dalla legge di Moore, il numero di singoli nano-componenti come i transistor su un chip continua ad aumentare, incrementando la densità delle entità funzionali e migliorando così la potenza di calcolo. Un metodo efficace per la fabbricazione controllata su scala nanometrica è il trattamento indotto da un fascio di elettroni focalizzato (FEBIP). In questo caso, un fascio di elettroni focalizzato viene utilizzato per modificare localmente le proprietà di un substrato, consentendo la fabbricazione di nanostrutture con forma arbitraria e composizione chimica controllata. La tecnica FEBIP più frequentemente applicata e di spicco è la deposizione indotta dal fascio di elettroni (EBID), in cui alcune molecole di precursori vengono localmente dissociate dall'impatto del fascio di elettroni, portando alla deposizione dei frammenti non volatili dei precursori. In questo libro sono state condotte indagini sulla fabbricazione e l'applicazione di nanostrutture mediante EBID.