Mikroälektronnye processy dlq izgotowleniq SBIS

Kniga "Mikroälektronnye processy pri izgotowlenii SBIS" - äto polnoe i awtoritetnoe rukowodstwo, w kotorom rassmatriwaütsq fundamental'nye principy i peredowye tehnologii, ispol'zuemye pri izgotowlenii swerhbol'shih integral'nyh shem (SBIS). Ohwatywaq shirokij krug woprosow, kniga nachinaetsq s podrobnogo wwedeniq w tehnologiü kremniewyh poluprowodnikow, wklüchaq obzor poluprowodnikowyh materialow, kristallicheskoj struktury kremniq, wnutrennih i wneshnih poluprowodnikow, tonkostej legirowaniq i koncentracii nositelej. Posleduüschie glawy poswqscheny wazhnejshim aspektam izgotowleniq SBIS, w nih rassmatriwaütsq tehnologii obrabotki poluprowodnikowyh plastin, takie kak rost, podgotowka, kontrol' defektow i razlichnye metody ochistki plastin. Podrobno rassmatriwaetsq wazhnejshij process okisleniq, ob#qsnqütsq metody termicheskogo, suhogo i mokrogo okisleniq, a takzhe modeli rosta oxidow. V knige podrobno rassmatriwaütsq metody äpitaxial'nogo osazhdeniq, wklüchaq himicheskoe osazhdenie iz parowoj fazy (CVD), molekulqrno-luchewuü äpitaxiü (MBE) i selektiwnuü äpitaxiü. Takzhe podrobno rassmatriwaütsq processy ionnoj implantacii i diffuzii, qwlqüschiesq klüchewymi pri izgotowlenii poluprowodnikowyh priborow, i daetsq podrobnoe opisanie processow ionnoj implantacii.