Microestructura del zafiro implantado con iones

La ciencia de la tecnología de implantación de iones se ocupa de la modificación de las propiedades cercanas a la superficie de una amplia gama de materiales. La técnica proporciona un excelente control de los parámetros de implantación, como el rango de dosis, la energía de las especies de iones y la temperatura de implantación. Las muestras de Alfa-Al2O3 (zafiro) se irradiaron a temperatura ambiente (TA) y a 1000 grados C con fluencias de 1x10^17 B+/cm^2, 3x10^16 N+/cm^2 y 1x10^17 Fe+/cm^2 con 150 keV de energía. Tras la irradiación, las estructuras se examinaron mediante microscopía electrónica de transmisión (TEM), espectroscopia de retrodispersión de Rutherford - canalización de iones (RBS-C), mediciones de absorción óptica, técnica de difracción de rayos X (XRD) y espectroscopia de fotoelectrones de rayos X (XPS). Las microestructuras dependientes de la profundidad de las muestras irradiadas, la energía depositada (elástica e inelástica) en función de la profundidad desde la superficie, la gama de especies implantadas y la producción de defectos se modelaron utilizando el programa de transporte y gama de iones en materiales (TRIM).