Fabrication lithographique de nanostructures de Fe et Co

L'industrie des semi-conducteurs est à la fois le moteur et le bénéficiaire du développement des nanotechnologies. Comme le prévoit la loi de Moore, le nombre de nanocomposants individuels tels que les transistors sur une puce continue d'augmenter, ce qui accroît la densité des entités fonctionnelles et améliore ainsi la puissance de calcul. Une méthode puissante pour la fabrication contrôlée à l'échelle nanométrique est le traitement induit par faisceau d'électrons focalisé (FEBIP). Dans cette méthode, un faisceau d'électrons focalisé est utilisé pour modifier localement les propriétés d'un substrat, ce qui permet de fabriquer des nanostructures de forme arbitraire et de composition chimique contrôlée. La technique FEBIP la plus fréquemment appliquée et la plus importante est le dépôt induit par faisceau d'électrons (EBID), dans lequel certaines molécules précurseurs sont localement dissociées par l'impact du faisceau d'électrons, ce qui entraîne le dépôt de fragments non volatils des précurseurs. Dans cet ouvrage, des recherches ont été menées sur la fabrication et l'application de la nanostructure par EBID.