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Design for Manufacturability with Advanced Lithography

von Bei Yu und David Z. Pan
Softcover - 9783319373935
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Beschreibung

This book introduces readers to the most advanced research results on Design for Manufacturability (DFM) with multiple patterning lithography (MPL) and electron beam lithography (EBL). The authors describe in detail a set of algorithms/methodologies to resolve issues in modern design for manufacturability problems with advanced lithography. Unlike books that discuss DFM from the product level or physical manufacturing level, this book describes DFM solutions from a circuit design level, such that most of the critical problems can be formulated and solved through combinatorial algorithms.

Details

Verlag Springer International Publishing
Ersterscheinung 23. August 2016
Maße 23.5 cm x 15.5 cm
Gewicht 277 Gramm
Format Softcover
ISBN-13 9783319373935
Auflage Softcover reprint of the original 1st ed. 2016
Seiten 164