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Deep Reactive-ion Etching

Deep Reactive-ion Etching

Softcover - 9786132874788
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Beschreibung

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Anisotropy, Etching (microfabrication), Dynamic random access memory, Plasma etching, Passivation, Polytetrafluoroethylene

Details

Verlag OmniScriptum
Ersterscheinung 24. März 2026
Maße 22 cm x 15 cm x 0.6 cm
Gewicht 143 Gramm
Format Softcover
ISBN-13 9786132874788
Seiten 84

Schlagwörter

Chemie