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CMOS Plasma and Process Damage

CMOS Plasma and Process Damage

von Kirk Prall
Softcover - 9783031890314
106,99 €
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Beschreibung

This book discusses the complex technology of building CMOS computer chips and covers some of the unusual problems that can occur during chip manufacturing. Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to the chips, functional failure and reliability problems. 

Details

Verlag Springer International Publishing
Ersterscheinung 18. Mai 2026
Maße 23.5 cm x 15.5 cm
Gewicht 733 Gramm
Format Softcover
ISBN-13 9783031890314
Seiten 466

Schlagwörter

Eingebettete Systeme, Electronic Devices, Electronics Design and Verification, Embedded Systems, Physik der kondensierten Materie (Flüssigkeits- und Festkörperphysik), Schaltkreise und Komponenten (Bauteile)

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