Zarozhdenie kristallow w litiewosilikatnyh fotochuwstwitel'nyh steklah

V rabote issledowana kinetika gomogennogo i geterogennogo zarozhdeniq kristallow w litiewosilikatnyh fotochuwstwitel'nyh steklah. Gomogennoe zarozhdenie realizowywalos' w litiewosilikatnyh steklah bez fotochuwstwitel'nyh primesej, a takzhe w steklah s fotochuwstwitel'nymi primesqmi bez ioniziruüschego oblucheniq. Geterogennoe zarozhdenie realizowywalos' w steklah s fotochuwstwitel'nymi primesqmi i ul'trafioletowym ili rentgenowskim oblucheniem. Rentgenowskoe obluchenie ne trebuet nalichiq w stekle sensibiliziruüschih primesej dioxida ceriq. V kachestwe getegorgennogo zarozhdeniq rassmotreno awtokataliticheskoe zarozhdenie, realizuüscheesq pri smeschenii sostawa stekla w storonu uwelicheniq soderzhaniq dioxida litiq. Poluchennye harakteristiki zarozhdeniq pozwolqüt wybrat' optimal'nye sostawy dlq proizwodstwa fotositallow.