Processi microelettronici per la fabbricazione di VLSI

"Micro-electronic Processes for VLSI Fabrication" è una guida completa e autorevole che approfondisce i principi fondamentali e le tecniche avanzate utilizzate nella fabbricazione di circuiti integrati su larghissima scala (VLSI). Coprendo un'ampia gamma di argomenti, il libro inizia con un'introduzione approfondita alla tecnologia dei semiconduttori al silicio, che comprende una panoramica dei materiali semiconduttori, della struttura cristallina del silicio, dei semiconduttori intrinseci ed estrinseci e delle complessità del drogaggio e della concentrazione dei portatori. I capitoli successivi approfondiscono gli aspetti cruciali della fabbricazione VLSI, esplorando le tecniche di lavorazione dei wafer, come la crescita, la preparazione, l'ispezione dei difetti e i vari metodi di pulizia dei wafer. Il processo critico dell'ossidazione viene trattato in dettaglio, spiegando le tecniche di ossidazione termica, a secco e a umido, insieme ai modelli di crescita dell'ossido. Il libro esamina ampiamente i metodi di deposizione epitassiale, tra cui la deposizione chimica da vapore (CVD), l'epitassia a fascio molecolare (MBE) e l'epitassia selettiva. Anche l'impianto e la diffusione di ioni, processi fondamentali per la fabbricazione di dispositivi a semiconduttore, sono discussi meticolosamente, con approfondimenti sui processi di impianto ionico.