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Beschreibung
Das renommierte Standardwerk bietet mit der Kommentierung des Patentgesetzes, des Patentgebührengesetzes, des Gebrauchsmustergesetzes, des Halbleiterschutzgesetzes, des Arbeitnehmererfindungsgesetzes sowie des Gesetzes über Internationale Patentübereinkommen die umfassendste Darstellung des gesamten relevanten Patentrechts. Gesetzgebung, Rechtsprechung und Literatur hierzu ist vollständig und aktuell erfasst.
Die Neuauflage berücksichtigt u.a. die Umsetzung der Durchsetzungsrichtlinie in das deutsche Recht mit dem Gesetz zur Verbesserung der Durchsetzung von Rechten des geistigen Eigentums, das Europäische Patentübereinkommen (EPÜ 2000, in Kraft seit 2007) sowie sonstige Änderungen kommentierter Gesetze.
Die Autoren sind langjährig mit dem Patentrecht befasste Richter am Bundesgerichtshof und am Bundespatentgericht.
Unter Berücksichtigung des Europäischen Patentübereinkommens und des Patentzusammenarbeitsvertrags. Mit Patentkostengesetz, Gebrauchsmustergesetz und Gesetz über den Schutz der Topographien von Halbleitererzeugnissen
Details
| Verlag | De Gruyter |
| Ersterscheinung | 20. Dezember 2012 |
| Maße | 24 cm x 17 cm |
| Gewicht | 2220 Gramm |
| Format | Hardcover |
| ISBN-13 | 9783899492262 |
| Auflage | 7. vollst. überarb. und erw. Aufl. |
| Seiten | 2534 |
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